光刻胶的光电效应受温度的影响很大。一些光刻胶在低温下具有较高的光电灵敏度，而在高温下具有较低的灵敏度。当光刻胶受到脉冲光照射时，光电流在停止照射后不会立即为零，这是光刻胶的延迟特性。制造光刻胶的材料主要是金属硫化物、硒化物和碲化物半导体。薄光刻胶和梳状欧姆电极通常是通过涂层、喷涂和烧结在绝缘基底上制成的。引线采用透明镜连接包装在密封外壳内，避免受潮。

光刻胶的光电效应受温度的影响很大。一些光刻胶在低温下具有较高的光电灵敏度，而在高温下具有较低的灵敏度。额定功率是指在某一电路中光 敏电阻所能消耗的功率。当温度升高时，功耗降低。从光跃迁到稳定亮电流的光 敏电阻。

当光刻胶受到脉冲光照射时，光电流在停止照射后不会立即为零，这是光刻胶的延迟特性。由于不同材料的光 敏性和电阻延迟特性不同，其频率特性也不同。PBS的使用频率远高于CDs，但大多数光刻胶的延时相对较长，不能用于需要快速响应的场合。

光刻胶的工作原理是基于内部光电效应。为了提高灵敏度，通常将两个电极做成梳状。制造光刻胶的材料主要是金属硫化物、硒化物和碲化物半导体。薄光刻胶和梳状欧姆电极通常是通过涂层、喷涂和烧结在绝缘基底上制成的。引线采用透明镜连接包装在密封外壳内，避免受潮。

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